新一代蚀刻气六氟-1,3-丁二烯的性质、制备和应用

来源 :化学推进剂与高分子材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sakurabb1
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详细介绍了电子工业用新一代蚀刻气六氟-1,3-丁二烯(HFBD)的性质、制备和提纯工艺,并指出了各种工艺的优缺点。同时介绍了HFBD的储运规范、应用情况以及国内外市场概况等。 The properties, preparation and purification of hexafluoro-1,3-butadiene (HFBD), a new generation of etching gas used in the electronics industry, are introduced in detail. The advantages and disadvantages of various processes are also pointed out. At the same time introduced HFBD storage and transportation norms, applications and market conditions at home and abroad.
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