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据报道,近日,来自韩国成均馆大学的Young Hee Le,东国大学的KiKang Kim以及KIST研究院的SooMinKim(共同通讯)联合在Science上发表文章,题为“Wafer-scale single-crystal hexagonal boron nitride film via self-collimated grain formation”。作者报道了一种通过化学气相沉积合成晶片级单晶hBN(SC-hBN)单层膜的方法。