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石墨炉中CuCl_2和FeCl_3对Al和Cd的干扰,主要是发生在气相中。当用1.0%EDTA铵盐作基体改进剂,CuCl_2和FeCl_3量分别高达1000ppm时无干扰。实验表明,EDTA铵盐消除干扰的原因,不仅是它具有与金属离子络合的能力,而且是它在溶液中NH_4~+取代了相应的氯化物中金属离子,形成挥发性的NH_4Cl而被驱除。