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采用等离子体辅助化学气相沉积（PECVD）法，在316L不锈铜基体表面以不同的沉积气压和射频功率制备出类金刚石（DLC）薄膜。拉曼光谱分析结果表明：所沉积的DLC膜具有典型的类金刚石膜结构，薄膜中sp3键含量随工艺参数的不同而不同，射频功率100W时，sp3键含量随沉积气压增高而降低。接触角测试结果表明：DLC膜沉积后，316L不锈铜表面与生理盐水和去离子水的接触角均变大，润湿性降低。