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本文采用KBH4在液相中化学还原CuSO4,并加入KOH和络合剂E D T A,制得了纳米级的纯净的铜粉,通过调整反应物的浓度,可以消除Cu2O等杂质.制备的纳米铜粉还存在一定程度的团聚,需试验加入分散剂来改善.
化学还原法制备纳米铜粉的研究
【摘 要】
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本文采用KBH4在液相中化学还原CuSO4,并加入KOH和络合剂E D T A,制得了纳米级的纯净的铜粉,通过调整反应物的浓度,可以消除Cu2O等杂质.制备的纳米铜粉还存在一定程度的团聚,
【机 构】
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广东工业大学材料学院,中山大学物理系
【出 处】
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材料科学与工程学报
【发表日期】
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2003年1期
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