论文部分内容阅读
用计算机分析系统对不同TiN PVD涂层工艺的镀膜层相组成进行了分析,并用Winfit 和Origin软件对X衍射图谱进行作图标定.研究表明,TiN涂层相组成主要有TiN、Ti2N、TiN0.26和FeTi相;工艺参数(如负偏压、靶电流和氮分压等)对涂层性能和质量的影响很大.在分析的基础上提出了合理的工艺参数.