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叙述了光刻胶(Photoresists)的工作原理,分类和g线胶、i线胶到DUV胶等的发展。近年来,芯片集成度从1G向4G和64G的需求,促使光刻胶和加工技术有了更新的发展。
微电子工业用光刻胶
【摘 要】
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叙述了光刻胶(Photoresists)的工作原理,分类和g线胶、i线胶到DUV胶等的发展。近年来,芯片集成度从1G向4G和64G的需求,促使光刻胶和加工技术有了更新的发展。
【机 构】
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上海市合成树脂研究所
【出 处】
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上海化工
【发表日期】
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2004年07期
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