18.2nm正入射显微成像系统滤光片的研究

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:JGTM2000
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18.2nm正人射显微成像系统用多层膜可极大地提高18.2nm的反射率,但它对紫外、可见和红外光也产生很高的反射。显微成像系统用的激光等离子体光源会在红外到敦X射线产生大量的辐射,18.2nm正入射显微系统用的胶片对所有光谱都十分敏感。因此,182nm正人射显微成像系统需要用滤光片滤除不需要的光辐射并对18.2nm的软X射线有较大的透射比,这样才能获得18.2nm的软X射线像。本文讨论了18.2nm正入射显微成像系统用滤光片的设计、制作及其特性。为了去除滤光片膜中的应力,用交替蒸镀Al和C多层膜的方法来制
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