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期刊论文
大视场投影光刻物镜的畸变特性检测
大视场投影光刻物镜的畸变特性检测
来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ljkstar007
【摘 要】
:
畸变特性是光刻物镜的关键指标,目前少有报道,提出了一种大视场投影光刻物镜畸变测量原理,测量系统和测量数据的处理方法.利用该装置对研制的口径6英寸,分辨率3 μm的物镜进
【作 者】
:
马韬
沈亦兵
【机 构】
:
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
【出 处】
:
光子学报
【发表日期】
:
2005年1期
【关键词】
:
光刻
畸变检测
Lithography Technology
Distortion Detect
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畸变特性是光刻物镜的关键指标,目前少有报道,提出了一种大视场投影光刻物镜畸变测量原理,测量系统和测量数据的处理方法.利用该装置对研制的口径6英寸,分辨率3 μm的物镜进行了测量,得出该物镜在全视场的畸变值小于2.0 μm.
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