磷离子注入石英基纳米金刚石薄膜的微结构和电学性能研究

来源 :广东化工 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wanmei_zxn

【摘要】

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在石英衬底上沉积纳米金刚石（NCD）薄膜,并进行1 ×10^14 cm^-2剂量的磷离子注入,再在800、900℃下低真空退火30分钟.对薄膜的微结构和电学性能的研究表明,薄膜呈n型电导,具

【作者】

：

赵海啸

【机构】

：

浙江工业大学

【出处】

：

广东化工

【发表日期】

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2014年16期

【关键词】

：

纳米金刚石薄膜磷离子注入石英衬底 N型 Nanocrystalline diamond films phosphorus ion implantation

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在石英衬底上沉积纳米金刚石（NCD）薄膜,并进行1 ×10^14 cm^-2剂量的磷离子注入,再在800、900℃下低真空退火30分钟.对薄膜的微结构和电学性能的研究表明,薄膜呈n型电导,具有载流子浓度低、迁移率高及电阻率高的导电特性.Raman光谱结果显示900℃退火样品的ID/IG值最大,说明薄膜内sp2碳发生团簇,有序度较高.XPS测试结果表明,石英衬底上沉积的纳米金刚石薄膜容易被氧化.这些因素使得薄膜的载流子浓度较低而迁移率较高.

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