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在多孔基底上形成免污离子壁垒超薄膜技术的新途径
在多孔基底上形成免污离子壁垒超薄膜技术的新途径
来源 :长春光学精密机械学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yydxpjg
【摘 要】
:
文中介绍了在多孔基底MCP输入面上制作免污离子壁垒膜层的新工艺的基本原理和方法,给出了膜层成分分析和带膜MCP特性测试结果。并初步讨论了电子通过与膜最的关系,提出了尚需深
【作 者】
:
卢耀华
李野
等
【机 构】
:
长春光学精密机械学院应用理学分院
【出 处】
:
长春光学精密机械学院学报
【发表日期】
:
2000年4期
【关键词】
:
离子壁垒
超薄膜
微通道板
像增强器
Ion barrier
Ultrathinfilm
Microchannel plate
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文中介绍了在多孔基底MCP输入面上制作免污离子壁垒膜层的新工艺的基本原理和方法,给出了膜层成分分析和带膜MCP特性测试结果。并初步讨论了电子通过与膜最的关系,提出了尚需深入探讨的具体问题。
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