类金刚石薄膜的折射率研究

来源 :西安工业学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cooltom

【摘要】

：

利用脉冲真空电弧镀方法在硅基底上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜折射率和工艺参数以及折射率与薄膜本征硬度的关系,结果表明:无氢类金刚石薄膜的折射率在2.5 ～2.7之间;不同的工

【作者】

：

梁海锋严一心

【机构】

：

西安工业学院光电科学与工程学院

【出处】

：

西安工业学院学报

【发表日期】

：

2004年1期

【关键词】

：

类金刚石薄膜折射率脉冲真空电弧镀基底材料硬度 diamond-like carbon film pulsed arc reflective index

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利用脉冲真空电弧镀方法在硅基底上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜折射率和工艺参数以及折射率与薄膜本征硬度的关系,结果表明:无氢类金刚石薄膜的折射率在2.5 ～2.7之间;不同的工艺参数可以得到不同折射率的薄膜;通过改变工艺条件来制备不同折射率的薄膜,和不同的基底材料的折射率匹配,使其有一定的机械强度.

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