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Mapper Lithography的多光束无掩模光刻机的研发取得了里程碑式的进展，这种新型光刻机将用于先进芯片的制造。Mapper表示，公司已经验证了该设备可实现大面积平行电子束绘制，并适用于32nm节点技术。
Mapper公司无掩模光刻机的研究获得重大进展
【摘 要】
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Mapper Lithography的多光束无掩模光刻机的研发取得了里程碑式的进展，这种新型光刻机将用于先进芯片的制造。Mapper表示，公司已经验证了该设备可实现大面积平行电子束绘制，并适
【出 处】
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光机电信息
【发表日期】
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2007年10期
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