Cold Light Mirror Fabricated by Electron Beam Evaporation of TiO2 and SiO2

来源 :半导体光子学与技术：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：guoyuan22

【摘要】

：

A process suitable for production on a large scale of cold light mirror for film projector is introduced.Deposition parameters required for producing TiO2/SiO2

【作者】

：

ZHONGDi－sheng XUGuang－zhong 等

【机构】

：

Dpet.ofPhys.,InstitituteofInstrumentationTechnology

【出处】

：

半导体光子学与技术：英文版

【发表日期】

：

2000年1期

【关键词】

：

冷光镜淀积过程电子束消散光学涂层 TIO2 SIO2 Cold light mirror Deposition process Optical coa

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A process suitable for production on a large scale of cold light mirror for film projector is introduced.Deposition parameters required for producing TiO2/SiO2 optical multialyer systems by electron beam evaporation of TiO2 and SiO2 starting materials are

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