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为提高磁控溅射薄膜的厚度均匀性,采用理论计算的方法分析了离轴溅射薄膜的厚度分布,结果表明最佳偏心距及对应的有效薄膜尺寸都与靶基距呈线性增大的关系。溅射原子的角分布、溅射环的宽度以及膜厚均匀性要求都会影响该线性关系。针对以上变化因子,本文归纳出了普适的公式,可方便地对实际工作进行指导。
离轴溅射法中最佳几何参量的预测
【摘 要】
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为提高磁控溅射薄膜的厚度均匀性,采用理论计算的方法分析了离轴溅射薄膜的厚度分布,结果表明最佳偏心距及对应的有效薄膜尺寸都与靶基距呈线性增大的关系。溅射原子的角分布
【机 构】
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电子科技大学、电子薄膜与集成器件国家重点实验室
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2007年3期
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