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利用365nm波段光源、扫描电镜、台阶仪、原子力显微镜和椭偏仪,研究了亚波长分辨光刻介质X AR-N 7700/30型光刻胶的显影速度、对比度、薄膜厚度和折射率等化学、物理特性参数。光刻胶未曝光部分显影速度为23.15nm/s,曝光部分为1.85nm/s,光刻胶的对比度高达2.5,稀释至30%的质量浓度时,光刻胶可旋涂成45nm厚的薄膜。