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以烧结α—Fe2O3为靶材，采用脉冲激光沉积（PLD）方法，在Si（100）基片上制备了Fe3O4薄膜。XRD分析表明，所得薄膜为立方尖晶石结构的Fe3O4，而且具有（311）和（440）择优取向；显微激光喇曼（Raman）光谱分析进一步证实薄膜中只出现单相Fe3O4；AFM分析表明，所得Fe3O4薄膜表面平整；采用VSM分析表明，Fe3O4薄膜的饱和磁化强度慨约为170kA·m^-1，而其矫顽力约为412kA·m^-1。