NiO薄膜材料的制备及其电化学电容性能

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以镍箔为基底,在Ni(N03)2溶液中,用电沉积法制各Ni(OH)2薄膜,进行热处理后转化为NiO薄膜电极材料。采用X射线衍射(XRD)和场发射扫描电子显微镜(FESEM)表征产物的结构和形貌。用循环伏安法、恒电流充放电等电化学方法系统研究所制样品的电化学性能。研究结果表明,在Ni(NO3)2溶液浓度为0.08mol·L-1,电压为-0.9V条件下沉积,并经过250℃热处理制备的NiO薄膜材料属于立方结构。表现出良好的电化学性能,其单电极比电容值达1220F·g-1。
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