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波长为532nm的激光促使厚度为5700A的钼膜与P型Si(111)衬底间发生化学反应。x-射线衍射分析表明,界面上生成了单相的Mo5Si3,属六方晶系。x-射线光电子能谱(XPS)分析表明,Mo的3d5/2电子谱峰均发生3.6eV的化学位移。用扫描电镜(SEM)观察到铝硅化物晶体生长得较为平整。四探针法测量的电阻率变化表明,采用合适的波长和功率的激光,可得到相当好的欧姆接触。