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干法刻蚀中高能量等离子体轰击将不可避免地在氮化镓材料表面引起损伤，这些表面损伤可能会严重影响氯化镓（GaN）材料质量和器件的性能。本文研究了千法刻蚀对GaN晶体表面粗糙度、光学特性和电学性能影响，同时分析了刻蚀损伤的回复方法，并给出了相应机理解释。
氮化镓晶体刻蚀损伤及其回复方法研究
【摘 要】
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干法刻蚀中高能量等离子体轰击将不可避免地在氮化镓材料表面引起损伤，这些表面损伤可能会严重影响氯化镓（GaN）材料质量和器件的性能。本文研究了千法刻蚀对GaN晶体表面粗糙度、
【机 构】
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深圳信息职业技术学院电子与通信学院
【出 处】
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深圳信息职业技术学院学报
【发表日期】
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2011年3期
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