【摘 要】
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化学抛光是继电解抛光法之后出现的一种新的金相磨片制备方法。虽然在钢铁企业中应用不久,但由于它具有很多优点,已引起人们很大的注意。一、化学抛光溶液配方及主要优点“
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化学抛光是继电解抛光法之后出现的一种新的金相磨片制备方法。虽然在钢铁企业中应用不久,但由于它具有很多优点,已引起人们很大的注意。一、化学抛光溶液配方及主要优点“金相研究方法”一书所列配方: 草酸2.5克,3％双氧水43.5c.c.,硫酸0.01c.c.,蒸馏水55.0c.c。此配方仅适于抛光处理含碳低于0.4％的低碳钢。笔者所用配方:
Chemical polishing is a new method of preparation of metallographic abrasive after electro-polishing. Although it has not been used for a long time in the steel industry, it has drawn great attention due to its many merits. First, the chemical polishing solution formulation and the main advantages of “Metallographic Research Method” a book listed formula: oxalic acid 2.5 grams, 3% hydrogen peroxide 43.5c.c., sulfuric acid 0.01c.c., distilled water 55.0c.c. This formula is only suitable for polishing low carbon steel containing less than 0.4% carbon. I used the formula:
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