【摘 要】
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MOS(金属氧化物半导体)材料对电子和计算机技术等领域十分重要,其生产过程需要使用高纯MOS试剂,如作清洗剂的盐酸、硝酸等,而且洗后不能有痕量离子残留下来,否圳会使电压特
【机 构】
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华东师范大学化学系,华东师范大学化学系,华东师范大学化学系,
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MOS(金属氧化物半导体)材料对电子和计算机技术等领域十分重要,其生产过程需要使用高纯MOS试剂,如作清洗剂的盐酸、硝酸等,而且洗后不能有痕量离子残留下来,否圳会使电压特性变差,故各种MOS级试剂中所含杂质元素的量必须严格控制在ppb级以下。
MOS (Metal Oxide Semiconductor) materials are very important for electronics and computer technology. The production process requires the use of high-purity MOS reagents such as hydrochloric acid, nitric acid and the like, and no traces of ions remain after washing. Shenzhen will make the voltage characteristics deteriorate, so various MOS-level reagents contained in the amount of impurity elements must be strictly controlled in ppb level below.
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