氢稀释对高速生长纳米晶硅薄膜晶化特性的影响

来源 :物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chungkhoan2002

【摘要】

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以SiH4与H2为气源,采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,在较高的压强(230Pa)下,研究氢稀释率对纳米晶硅薄膜的生长速率和晶化特性的影响.实验表明,薄膜的晶化率,晶粒尺寸

【作者】

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邱胜桦陈城钊刘翠青吴燕丹李平林璇英黄

【机构】

：

韩山师范学院物理与电子工程系; 汕头大学物理系;

【出处】

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物理学报

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

纳米晶硅薄膜氢稀释晶化率硅烷

【基金项目】

：

韩山师范学院基金(批准号:FC200508)资助的课题~~

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以SiH4与H2为气源,采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,在较高的压强(230Pa)下,研究氢稀释率对纳米晶硅薄膜的生长速率和晶化特性的影响.实验表明,薄膜的晶化率,晶粒尺寸随着氢稀释率的提高而增加,当氢稀释率为99%,薄膜的晶化率接近70%.而沉积速率却随着氢稀释率的减小而增加,当氢稀释率从99%减小到95%时,薄膜的沉积速率由0.3nm/s增加至0.8nm/s.

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