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金属电沉积中的配位化合物(Ⅳ):电沉积贵金属及其合金
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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2001年12期
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Male, 39 years old, due to fat
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采用等离子体化学气相沉积(PCVD)法,在0.1-0.3mm厚的普通硅钢片表面涂硅,再进行短时间高温扩散,使硅钢片的含Si量增加到6.5%,铁损P10/50比原来钢片降低50%,其他磁性能也大有改善。试验结果