【摘 要】
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1 引言 在微芯片的制造中用光刻技术在硅晶片上刻蚀图案。由于衍射这些图案的尺寸受光波长所限制。作者提供了一种应用光量子性质的新型光刻规程。原理上这种新技术可以突破
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1 引言 在微芯片的制造中用光刻技术在硅晶片上刻蚀图案。由于衍射这些图案的尺寸受光波长所限制。作者提供了一种应用光量子性质的新型光刻规程。原理上这种新技术可以突破衍射极限,不断实现小型化直至达到原子尺度。
1 Introduction Photolithography is used to etch patterns on silicon wafers in the manufacture of microchips. The size of these patterns is limited by the wavelength of light due to diffraction. The authors provide a new photolithography protocol that uses light quantum properties. In principle, this new technology can break through the diffraction limit, continue to achieve miniaturization until the atomic scale.
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