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离子注入处理通常被用作掺杂半导体元件,借以提供选择性改变材料表面性能的潜力。通过入射离子束产生的成份结构变化及邻近表面层形态的变化导致了处理表面的性能变化。已经证明如硬度、磨擦系数、耐磨损、耐腐蚀、表面能以及其它的表面性能可以在不对整体性能产生不利影响的同时由离子注入予以改变。本文叙述了离子注入的独特功能、显著的特征和技术的综合潜力。基于Spire公司的经验,介绍了离子注入处理的成功应用并且概述了选择有希望的应用对象的标准。在主要(?)要高的可靠性和再现性的应用市场中,表征离子注入处理特点的内在质量控制已