【摘 要】
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采用Ar、N2和SiH4混合气体反应溅射制备了一系列不同Si含量的Ti-Si-N复合膜,用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了复合膜的微结构和力学性能.结果表明,通过控制混合气体中SiH4
【机 构】
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上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
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采用Ar、N2和SiH4混合气体反应溅射制备了一系列不同Si含量的Ti-Si-N复合膜,用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了复合膜的微结构和力学性能.结果表明,通过控制混合气体中SiH4分压可以方便地获得不同Si含量的Ti-Si-N复合膜.当Si含量为(4～9)at%时,复合膜得到强化,最高硬度和弹性模量分别为34.2 Gpa和398 Gpa.进一步增加Si含量,复合膜的力学性能逐步降低.微结构研究发现,高硬度的Ti-Si-N复合膜呈现Si3N4界面相分隔TiN纳米晶的微结构特征,其中TiN纳米晶的
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