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东京应化的历史就是光刻胶的发展轨迹1968年开发出半导体用负型光刻胶、1972年开发出日本首次的正型光刻胶的东京应化以光蚀刻为核心技术．一直走在最先进的微加工技术的前列。
以成为光刻胶的龙头供应商为目标的tok（东京应化）
【摘 要】
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东京应化的历史就是光刻胶的发展轨迹1968年开发出半导体用负型光刻胶、1972年开发出日本首次的正型光刻胶的东京应化以光蚀刻为核心技术．一直走在最先进的微加工技术的前列。
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2007年5期
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