【摘 要】
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应用材料公司(AppIied Materials)宣布推出强大的Applied Centris AdvantEdgeMesa刻蚀系统.结构紧凑的Centris 系统以前所未有的方式装配了8个反应腔,即6个刻蚀反应腔和2个刻
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应用材料公司(AppIied Materials)宣布推出强大的Applied Centris AdvantEdgeMesa刻蚀系统.结构紧凑的Centris 系统以前所未有的方式装配了8个反应腔,即6个刻蚀反应腔和2个刻蚀后清洁腔,每小时可处理多达180片硅片,最多可将单片硅片的制造成本降低30%.rn应用材料公司副总裁兼刻蚀事业部总经理Ellie Yieh女士指出,传统制造平台无论在临界尺寸(CD)控制还是平均制造成本上都处于劣势,Applied Centris AdvantEdgeMesa是面向世界上最先进的存储和逻辑芯片的批量生产而推出的智能化程度最高,速度最快的硅刻蚀系统,通过领先的临界尺寸控制性能将每片晶圆的成本降低30%.拥有知识产权的系统智能软件确保每个反应腔的每个工艺流程精确匹配.传统平台对电场的调节能力有限,一致性(Uniformity)较低.
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