直流磁控溅射工艺对SmCo薄膜的影响

来源 :中国稀土学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：tsengyg

【摘要】

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采用不同的直流磁控溅射工艺, 制备了SmCo薄膜.分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析, 用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性

【作者】

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祝要民宋晓平李晓园陈强

【出处】

：

中国稀土学报

【发表日期】

：

2003年z1期

【关键词】

：

直流磁空溅射 SmCo薄膜工艺稀土 DC magnetic sputter SmCo film process parameter rare eart

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采用不同的直流磁控溅射工艺, 制备了SmCo薄膜.分别用能谱(EDAX)和俄歇谱仪(ASE)对薄膜的平均成份和表面到内部成份分布进行了分析, 用振动样品磁强计(VSM)分析了薄膜的磁性能, 用原子力显微镜(ATM)分析了溅射薄膜的表面颗粒形貌.结果表明, 溅射工艺因素对薄膜的成份和磁性能有较大的影响.

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