【摘 要】
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在工具企业中,生产标尺分度值为0.1和0.01毫米的接触式测量仪。为了对这些仪器进行分度和检定,就需精度更高的检定设备。众所周知,现有一般型式的干涉仪能以0.02至0.03微米
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在工具企业中,生产标尺分度值为0.1和0.01毫米的接触式测量仪。为了对这些仪器进行分度和检定,就需精度更高的检定设备。众所周知,现有一般型式的干涉仪能以0.02至0.03微米的误差来测量线性位移。参考文献所提出的提高双光束干涉仪灵敏度的方法,在某些参数方面不能满足这些高精度测量仪的检定和分度的要求。
In the tool business, a contact measuring device with scale graduations of 0.1 and 0.01 mm is produced. In order to index and verify these instruments, a more accurate verification device is required. It is well known that the conventional type of interferometer can measure linear displacement with an error of 0.02 to 0.03 microns. The methods proposed in the references to improve the sensitivity of the dual beam interferometer do not meet the requirements of the verification and indexing of these high precision gauges in terms of certain parameters.
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