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研究了一种在连续化电镀过程中，可有效地去除溶液中铜杂质的工艺方法。向连续镀镍溶液中添加一种铜掩蔽剂，可以使镀层中铜的质量分数降低80％左右，且不影响溶液体系中杂质的积累和镀层的物理性能及电流效率。此工艺方法适用于连续化电镀生产。
铜掩蔽剂在连续镀镍中的应用
【摘 要】
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研究了一种在连续化电镀过程中，可有效地去除溶液中铜杂质的工艺方法。向连续镀镍溶液中添加一种铜掩蔽剂，可以使镀层中铜的质量分数降低80％左右，且不影响溶液体系中杂质的积累和
【机 构】
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湖南科学技术开发院,常德力元新材料有限责任公司
【出 处】
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电镀与环保
【发表日期】
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2012年5期
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