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可集成的高压LDPMOSFET的设计及实验研究
可集成的高压LDPMOSFET的设计及实验研究
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fkjunjin
【摘 要】
:
通过对可集成的高压LDPMOSFET的设计及研制,得出了p~-漂移区的最佳硼注入剂量;分析了p~-漂移区长度及场板对击穿电压的影响。采用电阻率为3~6Ω-cm的n(100)单晶,获得了接近材
【作 者】
:
赵元富
【机 构】
:
骊山微电子公司
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
1989年1期
【关键词】
:
LDPMOSFET
集成
击穿电压
漂移区
LDPMOSFET
Drift region
Breakdown voltage
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通过对可集成的高压LDPMOSFET的设计及研制,得出了p~-漂移区的最佳硼注入剂量;分析了p~-漂移区长度及场板对击穿电压的影响。采用电阻率为3~6Ω-cm的n(100)单晶,获得了接近材料体击穿电压值的310V LDPMOSFET。
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