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本文通过改变硅靶电流的方法，用自制的磁控溅射设备在硬质合金刀片上制备了Ti-Si-N薄膜。用X射线衍射研究了Ti-Si-N薄膜的结构和织构变化，用XPS分析了薄膜的相组成，用显微硬度计测定了该涂层的显微硬度，用扫描电镜观察了薄膜的断口形貌，用标准切削试验方法研究了该涂层的耐磨性。结果表明，Ti-Si-N薄膜主要由Si3N4和TiN组成，Ti-Si-N涂层的硬度和耐磨性都高于TiN涂层。