用离子束刻蚀技术制作DBR激光器用光栅

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作为波长1.5μ带光通信和集成光路中的光源,InP系激光器是比较理想而有希望的,特别是分布布拉格反射型(DBR)激光器有很好的动态特性,又有希望实现单片集成化。我们用离子束刻蚀技术制成了DBR激光器用的一级布拉格反射光栅,其周期为2450(?)。本文首先概述了InP离子束刻蚀的一般特性,然后对最佳光栅格子的设计和制作方法作一较详细的论述。 InP system lasers are ideal and promising as light sources in wavelength 1.5μ optical communications and integrated optical paths. In particular, distributed Bragg reflector (DBR) lasers have good dynamics and promise to be monolithically integrated . We fabricated a first-order Bragg reflection grating for DBR lasers using ion beam lithography with a period of 2450 (?). This article first outlines the general characteristics of InP ion beam etching, and then discusses the design and fabrication of the best grating grid in more detail.
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