【摘 要】
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采用非平衡磁控溅射法制备CrN薄膜,研究了OEM值对CrN薄膜的硬度、成分、相结构及微观组织结构的影响。结果表明:在OEM调控下,CrN薄膜主要生成单一的CrN相;CrN薄膜硬度较高;结
【机 构】
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中国矿业大学材料科学与工程学院,宁波工程学院材料工艺研究所,
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采用非平衡磁控溅射法制备CrN薄膜,研究了OEM值对CrN薄膜的硬度、成分、相结构及微观组织结构的影响。结果表明:在OEM调控下,CrN薄膜主要生成单一的CrN相;CrN薄膜硬度较高;结合强度较好;CrN薄膜呈柱状生长,生长纹理清晰,表面孔隙较少,致密度增加。
CrN films were prepared by unbalanced magnetron sputtering. The effects of OEM value on the hardness, composition, phase structure and microstructure of CrN films were investigated. The results show that under the control of OEM, a single CrN phase is formed in the CrN film. The hardness of the CrN film is higher and the bonding strength is better. The CrN film grows in a columnar shape with clear growth texture, less surface porosity and higher density.
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