微透镜压模阵列一步制造法

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介绍制造微透镜压模阵列的新方法,采用聚焦离子束蚀刻(FIBM)将压模阵列制作在一块Si片上,用激光干涉仪测量所制造压模的2-D轮廓和表面粗糙度,最后用压模阵列进行热压花模压,压模和复制件的表面粗糙度分别为2.5nm和8nm。表面粗糙度定义为距粗糙度轮廓中线绝对距离的算术平均值。复制件轮廓能满足实际应用。所测的复制件尺寸与所设计阵列的尺寸相当一致。
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