【摘 要】
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用金刚石粉,用不同时间在两片镜面抛光的(111)硅基片上分别打磨。两片硅基片打磨后都仍保持镜面特征。采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷和氧气为前驱气体,在
【机 构】
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天津理工大学光电信息与光电子工程系和天津市薄膜电子与通信器件重点实验室
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用金刚石粉,用不同时间在两片镜面抛光的(111)硅基片上分别打磨。两片硅基片打磨后都仍保持镜面特征。采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷和氧气为前驱气体,在同样参数条件下,在基片上制备了直径5cm的金刚石薄膜。用扫描电镜和X射线衍射分析两片薄膜结构。分析结果表明其表面形貌基本相同都为(111)择优取向的金刚石薄膜;但X射线衍射分析表明打磨时间较长的薄膜中含有一定量在非晶成分。用热导测试仪测试两薄膜和硅基片的热导率约为:241.7W/mK,192.9W/mK和169.3W/mK。结合扫描电镜和X射线衍射分析结果我们讨论了基底处理对金刚石/硅复合膜的导热特性的影响。
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