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闪存器件中预氧化湿法清洗的作用很重要．因为虽然它们并不像逻辑栅的尺寸那样快速地缩小．但是他们比逻辑栅需要更低的泄漏性能．通常在更高的电压下工作。最近的基础研究采用了非接触和传统电性测试探究了预清洗特性对氧化层质量的影响。
臭氧推动隧道氧化层的发展
【摘 要】
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闪存器件中预氧化湿法清洗的作用很重要．因为虽然它们并不像逻辑栅的尺寸那样快速地缩小．但是他们比逻辑栅需要更低的泄漏性能．通常在更高的电压下工作。最近的基础研究采用了非
【机 构】
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emiconductorIntermational高级编辑
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2006年11期
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