新一代CMP设备及其对IC器件的影响

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概述了为IC生产中绝缘体上硅(SOI)、硅/多晶硅、浅沟槽隔离(STI)、氧化物(PMD和ILD)、钨(W)、铜(Cu)和铝(Al)等不同化学机械抛光(CMP)用途开发的CMP设备的进展,讨论了新一代CMP设备(MIRRARCMP)对IC器件生产的影响及其特性.
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