论文部分内容阅读
用脉冲激光沉积(PLD)方法在多孔硅(Ps)衬底上沉积了ZnS薄膜。用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、荧光分光光度计分别研究了ZnS薄膜的晶体结构、表面形貌及光学性能。结果表明,ZnS薄膜呈立方相晶体结构,沿β-ZnS(111)晶向择优取向生长;经过300℃真空退火30min后,ZnS薄膜的XRD衍射峰强度增大,表面变得粗糙,在可见光区的平均透射率达到80%以上,适合作太阳能电池过渡层、红外增透膜、红外窗口和头罩等。在退火后的ZnS/PS复合膜体系的光致发光谱(PL)中,除了高能端ZnS