几种制备非晶硅膜的新CVD技术

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本文在介绍等离子体增强型CVD(PECVD)、光-CVD制备非晶硅膜的同时,首先概述了国内熟知并使用较多的低压CVD技术,其次简单地介绍了国外近几年报导的电子迴旋共振微波等离子体低温CVD(简称MPCVD)、CLT—CVD、均质CVD等技术制备非晶硅膜的状况及设备市场。 In this paper, plasma-enhanced CVD (PECVD) and photo-CVD are introduced to fabricate amorphous silicon films. In the meantime, the low-pressure CVD technology, which is widely used and widely used in China, is briefly introduced. Secondly, the electron cyclotron Resonance Microwave Plasma Cryogenic CVD (MPCVD), CLT-CVD, Homogeneous CVD and other techniques for the preparation of amorphous silicon film equipment and the market conditions.
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