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结合理论和数值计算分析了稀薄效应对磁头/磁盘系统纳米间隙润滑的影响.从膜厚的角度来看,低于气体分子平均自由程的比例并不大.而从膜厚和压力2方面来看,处于稀薄效应区域的比例将大大增加.实际的磁头/磁盘系统中,磁头的大部分仍工作在稀薄气体的滑流区域,离稀薄气体的过渡区还较远.考虑稀薄效应后,磁头/磁盘系统的重要工作性能参数,都有减小的趋势.