渐变折射率Ta2O5/SiO2薄膜多脉冲激光损伤特性

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采用离子束溅射(IBS)的方式,制备了1064 nm高反射Ta2O5/SiO2渐变折射率光学薄膜.对其光学性能和在基频多脉冲下抗损伤性能进行了分析.通过渐变折射率的设计方式,很好地抑制了边带波纹,增加了1064 nm反射率.通过对损伤阈值的分析发现,随着脉冲个数的增加,损伤阈值下降明显;但是在20个脉冲数后,损伤阈值(维持在22 J/cm2左右)几乎保持不变直到100个脉冲数.通过Leica显微镜对损伤形貌的观察,发现损伤诱因是薄膜表面的节瘤缺陷.通过扫描电镜(SEM)以及聚集离子束(FIB)对薄膜表面以
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