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详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法，针对用于ＣＯ２激光器模式优化的二元光学反射镜，分析了元件制作误差，包括掩模对准误差、台阶刻蚀深度误差和台阶刻蚀宽度误差对谐振腔振荡模式的影响。
二元光学元件的制作及其误差分析
【摘 要】
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详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法，针对用于ＣＯ２激光器模式优化的二元光学反射镜，分析了元件
【机 构】
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华中科技大学光电子工程系
【出 处】
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光电子技术与信息
【发表日期】
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2000年5期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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