【摘 要】
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介绍了大面积低温多晶Si薄膜晶体管液晶显示技术的发展水平。最近 ,低温多晶Si薄膜晶体管业已取得很大进展 ,比如高质量多晶Si薄膜的受激准分子激光退火 (激光再结晶 )工艺 ,
【机 构】
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安阳大学,安阳电子管厂 河南安阳455000,河南安阳455000
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介绍了大面积低温多晶Si薄膜晶体管液晶显示技术的发展水平。最近 ,低温多晶Si薄膜晶体管业已取得很大进展 ,比如高质量多晶Si薄膜的受激准分子激光退火 (激光再结晶 )工艺 ,大面积掺杂用离子掺杂工艺 ,以及低温原子团簇射式化学汽相沉积工艺。
The development of large area low temperature polycrystalline Si thin film transistor liquid crystal display technology is introduced. Recently, great progress has been made in low temperature polycrystalline Si thin film transistors, such as excimer laser annealing (laser recrystallization) process for high quality polycrystalline Si film, ion doping for large area doping and low temperature atomic cluster shower Chemical vapor deposition process.
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