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通过试验分析了抛光雾产生的机理和影响因素。在试验的基础上，优化选择了抛光工艺技术，有效地控制了抛光雾，取得较好的结果。
硅片抛光雾的分析研究
【摘 要】
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通过试验分析了抛光雾产生的机理和影响因素。在试验的基础上，优化选择了抛光工艺技术，有效地控制了抛光雾，取得较好的结果。
【机 构】
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河北工业大学
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1998年1期
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