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采用直流磁控溅射技术制备了周期厚度为27.5nm的W/Si多层膜,使用实时应力测量装置对其应力特性进行了研究。为降低膜层应力,采用W、Si共溅射技术制备WxSi1-x膜层替换W膜层,制备出WxSi1-x多层膜,与W/Si多层膜的应力特性进行了比较研究。结果表明,W/Si多层膜为较大的压应力,测量值为476.86MPa,WxSi1-x周期多层膜为较小的压应力,测量值为102.84MPa。因此采用共溅射制备WxSi-x/Si代替W可以显著改善多层膜的应力特性。