【摘 要】
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采用紫外光与臭氧(UVO)法原位制备氧化石墨烯薄膜,以氧化石墨烯薄膜结合二端电子器件构造高性能气敏传感器。测试了氧化石墨烯气敏传感器对NH3的灵敏度、时间响应、选择性、
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（51625504, 61671368）；广东省科技计划资助项目(2012B090900017)。
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采用紫外光与臭氧(UVO)法原位制备氧化石墨烯薄膜,以氧化石墨烯薄膜结合二端电子器件构造高性能气敏传感器。测试了氧化石墨烯气敏传感器对NH3的灵敏度、时间响应、选择性、保持率等特性。研究表明:由UVO法获得的氧化石墨烯气敏传感器的时间响应速度快、恢复性能好、稳定性强;UVO法的处理时间等工艺参数对氧化石墨烯气敏传感器的性能有很大影响,当处理时间为7 min时,氧化石墨烯气敏传感器对NH3的灵敏度达到最高值(20%),功耗低(测试功率≤1m W)且长期保持率好;以丙酮和无水乙醇为对比气体,该传感器对NH3表现出明显的选择性(灵敏度最大相差19%)。UVO法制备的氧化石墨烯相比于化学法来讲对器件的污染更少,且可实现氧化石墨烯薄膜图形化工艺与集成电路制造工艺相兼容。
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