论文部分内容阅读
研究了施加稳恒磁场（0～1T）对电镀Ni—W合金的影响。测定不同方向、不同强度稳恒磁场下的电流效率、合金组成及镀层的耐蚀性，并用扫描电镜和X射线衍射对镀层的微观形貌及结构进行了观察和分析。对实验结果进行了分析讨论，找出稳恒磁场对这些性能指标的影响规律。结果表明：与不施加磁场相比，施加磁场后镀层的表面更均匀、细致、平整；镀层的含钨量上升：当B⊥J，B=1．0T时，含钨量上升了约7％；当B∥J，B=1．0T时，含钨量上升了约9％；镀膜的非晶化程度增强；镀膜的耐蚀性提高；但Ni—W合金电镀的电流效率降低。